Acoustic phonon propagation in ultra-thin Si membranes under biaxial stress field
We report on stress induced changes in the dispersion relations of acoustic phonons propagating in 27 nm thick single crystalline Si membranes. The static tensile stress (up to 0.3 GPa) acting on the Si membranes was achieved using an additional strain compensating silicon nitride frame. Dispersion...
Збережено в:
| Автори: | , , , , , , , |
|---|---|
| Формат: | Artigo |
| Мова: | Inglês |
| Опубліковано: |
IOP Publishing
2014-01-01
|
| Серія: | New Journal of Physics |
| Предмети: | |
| Онлайн доступ: | https://doi.org/10.1088/1367-2630/16/7/073024 |
| Теги: |
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|