شبیه‌سازی مونت کارلوی فرایند لایه نشانی با لیزر پالسی و بررسی تغییر فاصله هدف تا زیرلایه بر مشخصات لایه‌ها
در این مقاله، فرایند لایه نشانی با لیزر پالسی و در حضور گاز پس‌زمینه به روش مونت کارلو شبیه‌سازی شده است. به طور خاص رشد فلز آلومینیوم در محیط گاز زنون پس‌زمینه و در فشار 50 میلی تور شبیه‌سازی شده است. فواصل هدف - زیرلایه برابر با 10، 15، 20، 25 و 30 میلی متر در شبیه‌سازی‌ها مورد استفاده قرار گرفته...
Na minha lista:
| Principais autores: | , , , |
|---|---|
| Format: | Artigo |
| Sprog: | Persa |
| Udgivet: |
Payame Noor University
2017-02-01
|
| Serier: | اپتوالکترونیک |
| Fag: | |
| Online adgang: | https://jphys.journals.pnu.ac.ir/article_3818_6288062dd00e90ca8f567125a3de96f5.pdf |
| Tags: |
Ingen Tags, Vær først til at tagge denne postø!
|