Deuterium plasma exposure of thin oxide films on tungsten - oxygen removal and deuterium uptake
Recently we have shown that thin (33 to 55 nm) oxide films on tungsten (W) prevent deuterium (D) uptake from a low-temperature plasma (5 eV/D; 370 K; 1.4 × 1024 D/m2) into metallic W. Here we continue this investigation with higher D fluence up to 2.3 × 1025 D/m2 and, additionally, with higher D ene...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , |
|---|---|
| التنسيق: | Artigo |
| اللغة: | Inglês |
| منشور في: |
Elsevier
2023-06-01
|
| سلاسل: | Nuclear Materials and Energy |
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S2352179123000455 |
| الوسوم: |
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|