کاهش سمیت رزین آکریلیک با حذف مونومرهای آزاد باقیمانده جهت توسعه جوهر رسانای نقره با پایداری بهبودیافته
هدف این مطالعه، طراحی رزین آکریلیک کمسمیت برای ساخت جوهر رسانای نقره مورد استفاده در چاپ مدارهای رسانا است. رزین آکریلیک کربوکسیله- هیدروکسیله بر پایه مونومرهای متیل متاکریلات، بوتیل اکریلات، آکریلیک اسید و 2-هیدروکسی اتیل متاکریلات از طریق بسپارش رادیکالی آزاد به صورت محلولی سنتز شد. خصوصیات ر...
Gardado en:
| Autor Principal: | |
|---|---|
| Formato: | Artigo |
| Idioma: | Persa |
| Publicado: |
Institute for Color Science and Technology
2025-08-01
|
| Series: | علوم و فناوری رنگ |
| Assuntos: | |
| Acceso en liña: | https://jcst.icrc.ac.ir/article_82151_0ec11207600cf4595c2dbd17de0c9b55.pdf |
| Tags: |
Sen Etiquetas, Sexa o primeiro en etiquetar este rexistro!
|