On the Mixed Gas Behavior of Organosilica Membranes Fabricated by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)

Selective, nanometer-thin organosilica layers created by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) exhibit selective gas permeation behavior. Despite their promising pure gas performance, published data with regard to mixed gas behavior are still severely lacking. This study endeavors to clo...

Szczegółowa specyfikacja

Opis bibliograficzny

Główni autorzy:	Jens Rubner, Soukaina Skribbe, Hannah Roth, Lara Kleines, Rainer Dahlmann, Matthias Wessling
Format:	Artigo
Język:	Inglês
Wydane:	MDPI AG 2022-10-01
Seria:	Membranes
Hasła przedmiotowe:	gas separation mixed gas permeation mixed gas selectivity organosilica membrane plasma-enhanced chemical vapor deposition
Dostęp online:	https://www.mdpi.com/2077-0375/12/10/994
Etykiety:	Dodaj etykietę Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!