Effect of Deposition Pressure and Temperature on Tungsten Thin-Film Heater for Phase-Change Switch Applications
Tungsten (W) film is increasingly utilized in various microheater applications due to its numerous advantages. These advantages include a high melting point, positive constant temperature coefficient of resistance (TCR), good mechanical stability, and compatibility with semiconductor processes. In t...
Đã lưu trong:
| Những tác giả chính: | , , , , |
|---|---|
| Định dạng: | Artigo |
| Ngôn ngữ: | Inglês |
| Được phát hành: |
MDPI AG
2024-04-01
|
| Loạt: | Micromachines |
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | https://www.mdpi.com/2072-666X/15/5/576 |
| Các nhãn: |
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|