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Scaled‐Up Graphene Growth Through Chemical Vapor Deposition Over Large‐Area Liquid Cu Catalysts

Abstract This study scales up the chemical vapor deposition (CVD) process for graphene growth using CH₄ and H₂ mixtures on large molten Cu substrates using a liquid metal catalyst (LMCat) reactor. In situ optical microscopy and ex situ Raman spectroscopy reveal key differences from previous studies...

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Principais autores: Mahesh K. Prabhu, Christos Tsakonas, Yilei Tian, Marc deVoogd, Kees E. Kolmeijer, Anastasios Manikas, Gertjan vanBaarle, Grégory F. Schneider, Costas Galiotis, Irene M. N. Groot
Formato: Artigo
Idioma:Inglês
Publicado em: Wiley-VCH 2025-06-01
coleção:Advanced Materials Interfaces
Assuntos:
2D material
CVD
empirical model
graphene
high quality
large area
Acesso em linha:https://doi.org/10.1002/admi.202401005
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