QR код

Gate Field‐Induced Dynamic Schottky Barrier Height Reduction in Bilayer MoS2 for Sub‐60 mV/dec Schottky Barrier FETs

ABSTRACT Bilayer MoS2 exhibits bandgap narrowing under a vertical electric field due to inversion symmetry breaking, with the extent of reduction scaling proportionally with field strength. Leveraging this intrinsic property, this study investigates its impact on the performance of bilayer MoS2 Scho...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Автори: Gyeong Min Seo, Jeong Wook Kim, Byoung Don Kong
Формат: Artigo
Мова:Inglês
Опубліковано: Wiley-VCH 2025-12-01
Серія:Advanced Electronic Materials
Предмети:
Онлайн доступ:https://doi.org/10.1002/aelm.202500502
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!