Přeskočit na obsah
Přihlášení prostřednictvím instituce
Jazyk
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Māori
தமிழ்
Vše
Autor
Název
Název časopisu
Téma
ISBN/ISSN
Tag
Hledat
Pokročilé
The influence of annealing (90...
Zaslat záznam e-mailem
Zaslat záznam e-mailem:
The influence of annealing (900◦C) of ultra-thin PECVD silicon oxynitride layers
Komu:
Zpráva:
