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Síntese de microesferas para aplicação como fotorresistes /
[PT] Foram determinadas condições de polimerização em emulsão para a obtenção de microesferas reticuladas a base de metacrilato de n-butila e metacrilato de 2-hidroxietila com diferentes diãme - tros e composlçes. Materiais fotossensTveis foram obtidos pela introdução de grupamentos cinamofla. Irrad...
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| Main Authors: | , , |
|---|---|
| Formato: | Livro |
| Idioma: | Português |
| Publicado em: |
UFRJ,
1986.
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| Assuntos: | |
| Acesso em linha: | https://minerva.ufrj.br/F/?func=direct&doc_number=000181877&local_base=UFR01 |
| Tags: |
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