Carl Zeiss AG, ou : comment l’innovation a résisté au Mur
Le 16 octobre, le groupe Carl Zeiss AG inaugurait à Oberkochen (Bade-Wurtemberg), où il a son siège, une plateforme technologique destinée à la R&D dans le segment où il est leader mondial : la lithographie des semi-conducteurs. Le groupe y a investi 450 millions € – prix à payer pour surclasser dur...
Gorde:
| Egile nagusia: | |
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| Formatua: | Artigo |
| Hizkuntza: | Francês |
| Argitaratua: |
CIRAC
2006
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| Gaiak: | |
| Sarrera elektronikoa: | https://doi.org/10.4000/rea.729 https://hdl.handle.net/20.500.13089/jmbi https://journals.openedition.org/rea/729 |
| Etiketak: |
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