Trích dẫn APA

Kazemi, A., He, X., Alaie, S., Ghasemi, J., Dawson, N. M., Cavallo, F., . . . Krishna, S. (2021). Retraction Note: Large-Area Semiconducting Graphene Nanomesh Tailored by Interferometric Lithography. Sci Rep.

Trích dẫn kiểu Chicago

Kazemi, Alireza, Xiang He, Seyedhamidreza Alaie, Javad Ghasemi, Noel Mayur Dawson, Francesca Cavallo, Terefe G. Habteyes, Steven R. J. Brueck, và Sanjay Krishna. "Retraction Note: Large-Area Semiconducting Graphene Nanomesh Tailored By Interferometric Lithography." Sci Rep 2021.

Trích dẫn MLA

Kazemi, Alireza, et al. "Retraction Note: Large-Area Semiconducting Graphene Nanomesh Tailored By Interferometric Lithography." Sci Rep 2021.

Cảnh báo: Các trích dẫn này có thể không phải lúc nào cũng chính xác 100%.