Schmucker, S. W., Namboodiri, P. N., Kashid, R., Wang, X., Hu, B., Wyrick, J. E., . . . Stewart, M. D. (2019). Low-Resistance, High-Yield Electrical Contacts to Atom Scale Si: P Devices Using Palladium Silicide. Phys Rev Appl.
Citação norma ChicagoSchmucker, Scott W., et al. "Low-Resistance, High-Yield Electrical Contacts to Atom Scale Si: P Devices Using Palladium Silicide." Phys Rev Appl 2019.
Citação norma MLASchmucker, Scott W., et al. "Low-Resistance, High-Yield Electrical Contacts to Atom Scale Si: P Devices Using Palladium Silicide." Phys Rev Appl 2019.
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