Hajihoseini, H., Kateb, M., Ingvarsson, S. Þ., & Gudmundsson, J. T. (2019). Oblique angle deposition of nickel thin films by high-power impulse magnetron sputtering. Beilstein J Nanotechnol.
Styl cytowania ChicagoHajihoseini, Hamidreza, Movaffaq Kateb, Snorri Þorgeir Ingvarsson, i Jon Tomas Gudmundsson. "Oblique Angle Deposition of Nickel Thin Films By High-power Impulse Magnetron Sputtering." Beilstein J Nanotechnol 2019.
Styl cytowania MLAHajihoseini, Hamidreza, Movaffaq Kateb, Snorri Þorgeir Ingvarsson, i Jon Tomas Gudmundsson. "Oblique Angle Deposition of Nickel Thin Films By High-power Impulse Magnetron Sputtering." Beilstein J Nanotechnol 2019.
Uwaga: Te cytaty mogą odróżniać się od wytycznej twojego fakultetu..