Correction to: Wafer-Scale Fabrication of Sub-10 nm TiO2-Ga2O3 n-p Heterojunctions with Efficient Photocatalytic Activity by Atomic Layer Deposition

Gorde:
Xehetasun bibliografikoak
Argitaratua izan da:Nanoscale Res Lett
Egile Nagusiak: Xu, Hongyan, Han, Feng, Xia, Chengkai, Wang, Siyan, Ramachandran, Ranjith K., Detavernier, Christophe, Wei, Minsong, Lin, Liwei, Zhuiykov, Serge
Formatua: Artigo
Hizkuntza:Inglês
Argitaratua: Springer US 2019
Gaiak:
Correction
Sarrera elektronikoa:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6536561/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/31134408
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1186/s11671-019-3028-5
Etiketak: Etiketa erantsi
Etiketarik gabe, Izan zaitez lehena erregistro honi etiketa jartzen!

Antzeko izenburuak