Correction to: Wafer-Scale Fabrication of Sub-10 nm TiO2-Ga2O3 n-p Heterojunctions with Efficient Photocatalytic Activity by Atomic Layer Deposition

Na minha lista:
Detalhes bibliográficos
Publicado no:Nanoscale Res Lett
Main Authors: Xu, Hongyan, Han, Feng, Xia, Chengkai, Wang, Siyan, Ramachandran, Ranjith K., Detavernier, Christophe, Wei, Minsong, Lin, Liwei, Zhuiykov, Serge
Formato: Artigo
Idioma:Inglês
Publicado em: Springer US 2019
Assuntos:
Correction
Acesso em linha:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6536561/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/31134408
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1186/s11671-019-3028-5
Tags: Adicionar Tag
Sem tags, seja o primeiro a adicionar uma tag!

Registos relacionados