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Particle atomic layer deposition

The functionalization of fine primary particles by atomic layer deposition (particle ALD) provides for nearly perfect nanothick films to be deposited conformally on both external and internal particle surfaces, including nanoparticle surfaces. Film thickness is easily controlled from several angstro...

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Dettagli Bibliografici
Pubblicato in:J Nanopart Res
Autore principale: Weimer, Alan W.
Natura: Artigo
Lingua:Inglês
Pubblicazione: Springer Netherlands 2019
Soggetti:
Accesso online:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6320374/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/30662321
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1007/s11051-018-4442-9
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