Ma, Z., Liu, Y., Deng, L., Zhang, M., Zhang, S., Ma, J., . . . Wang, X. (2018). Heavily Boron-Doped Silicon Layer for the Fabrication of Nanoscale Thermoelectric Devices. Nanomaterials (Basel).
Citación estilo ChicagoMa, Zhe, et al. "Heavily Boron-Doped Silicon Layer for the Fabrication of Nanoscale Thermoelectric Devices." Nanomaterials (Basel) 2018.
Cita MLAMa, Zhe, et al. "Heavily Boron-Doped Silicon Layer for the Fabrication of Nanoscale Thermoelectric Devices." Nanomaterials (Basel) 2018.
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