Khan, Z. N., Ahmed, S., & Ali, M. (2016). Effect of Thermal Budget on the Electrical Characterization of Atomic Layer Deposited HfSiO/TiN Gate Stack MOSCAP Structure. PLoS One.
Citação norma ChicagoKhan, Z. N., S. Ahmed, and M. Ali. "Effect of Thermal Budget On the Electrical Characterization of Atomic Layer Deposited HfSiO/TiN Gate Stack MOSCAP Structure." PLoS One 2016.
Citação norma MLAKhan, Z. N., S. Ahmed, and M. Ali. "Effect of Thermal Budget On the Electrical Characterization of Atomic Layer Deposited HfSiO/TiN Gate Stack MOSCAP Structure." PLoS One 2016.
Nota: a formatação da citação pode não corresponder 100% ao definido pela respectiva norma.