Ding, T., Sigle, D. O., Herrmann, L. O., Wolverson, D., & Baumberg, J. J. (2014). Nanoimprint Lithography of Al Nanovoids for Deep-UV SERS. ACS Appl Mater Interfaces.
Styl ChicagoDing, Tao, Daniel O. Sigle, Lars O. Herrmann, Daniel Wolverson, a Jeremy J. Baumberg. "Nanoimprint Lithography of Al Nanovoids for Deep-UV SERS." ACS Appl Mater Interfaces 2014.
Citace podle MLADing, Tao, et al. "Nanoimprint Lithography of Al Nanovoids for Deep-UV SERS." ACS Appl Mater Interfaces 2014.
Upozornění: Tyto citace jsou generovány automaticky. Nemusí být zcela správně podle citačních pravidel..