Ding, T., Sigle, D. O., Herrmann, L. O., Wolverson, D., & Baumberg, J. J. (2014). Nanoimprint Lithography of Al Nanovoids for Deep-UV SERS. ACS Appl Mater Interfaces.
Trích dẫn kiểu ChicagoDing, Tao, Daniel O. Sigle, Lars O. Herrmann, Daniel Wolverson, và Jeremy J. Baumberg. "Nanoimprint Lithography of Al Nanovoids for Deep-UV SERS." ACS Appl Mater Interfaces 2014.
Trích dẫn MLADing, Tao, et al. "Nanoimprint Lithography of Al Nanovoids for Deep-UV SERS." ACS Appl Mater Interfaces 2014.
Cảnh báo: Các trích dẫn này có thể không phải lúc nào cũng chính xác 100%.